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效力级别
发布时间

2004(1)
发布机构

Department:Che...(1)

University:Geo...(1)
学科类别

Electron beam(1)

Inorganic(1)

Lithography(1)

Metal-organic(1)

Monte Carlo simulations(1)

Resist(1)
文种类型
地区
时效性

检索结果

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Resist

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Development of Inorganic Resists for Electron Beam Lithography: Novel Materials and Simulations

颁布单位：[University:Georgia Institute of Te... | 颁布时间：2004 | 实施时间：2004 | 学科分类：[Resist, Inorganic, Monte Carlo simulations, Metal-organic, Electron beam, Lithography]

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