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2004
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Department:Che...
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University:Geo...
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Development of Inorganic Resists for Electron Beam Lithography: Novel Materials and Simulations
颁布单位：[University:Georgia Institute of Te... | 颁布时间：2004 | 实施时间：2004 | 学科分类：[Resist, Inorganic, Monte Carlo simulations, Metal-organic, Electron beam, Lithography]
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